这款70L/s涡轮分子泵借助涡轮增压技术与创新的TwisTorr拖动级技术之间的协同作用，可提供高真空性能。悬浮轴承确保低振动和低噪音，适用于高灵敏度仪器和工作环境。 这款小型涡轮泵完美适用于多种应用，包括研发、UHV系统、核研究和电子显微镜。 TwisTorr74FS可提供一体式控制器或机架控制器。

正常工序：阳极氧化--表面油污清洗、表面二次清洗（喷漆前工序）、纳米喷漆； 替代工序为表面二次清洗；利用等离子清洗，增加表面张力！

SDC-500全自动接触角测量仪采集系统设计灵活，适用于绝大部分测量环境，简单应付多种复杂的样品表面测量；

产品特点： 1.具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。 2.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。

PLUTO-M等离子清洗机：等离子源采用频率为13.56MHz射频发生器，同时具备物理清洗和化学清洗能力。

等离子去胶机针对于对等离子体处理有严苛要求的场合中使用,等离子源才用频率为13.56MHz射频发生器，兼顾物理反应和化学反应

定制款等离子处理机产品特点： 我们的团队拥有丰富的学术和工作背景，使用和设计经验极为成熟，产品涉及各个等离子体应用领域 极为稳定的设备性能和拥有对功能变化带来性能增减的把控能力 成熟稳定的供应商体系和部件加工能力

等离子去胶机,光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。

Pluto-MC等离子体涂覆（镀膜）设备具体方法是用非聚合气体（如Ar,H2,O2,N2和空气等）对样品表面进行等离子体处理，使其表而形成活性自由基，之后利用活性自由基引发功能性单体，使其在表面进行接枝聚合

Pluto-Atmos等离子涂覆镀膜系统是一种基于频率为13.56MHz（射频）等离子体技术的新型表面涂覆设备。 是一种强大的新涂层工艺，利用大气压等离子体设备在任何大小或形状的样品上通过扫描的方式获得均匀的涂层。

PLUTO-160等离子清洗机是一款13.56MHz射频电源与自动匹配系统，具有优异的稳定性与可重复性

Pluto-30等离子清洗机是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。

等离子配件-真空油泵 产品简介： 凭借非常简单而可靠的设计，这些久经实际应用验证的旋片泵可提供优异的真空性能。安捷伦产品的质量和制造标准确保了DS旋片泵对轻质气体具有稳定的高抽速，同时还具有低噪声，返油量少以及使用寿命长的特点。该泵的双级设计使其可以在较低工作温度下使用，并超大限度减少低压强造成油蒸汽的回流现象，同时在10-2mbar的低压范围内具有良好的抽气速率和气镇效果。

等离子配件-分子泵74FS 产品简介： 安捷伦70L/s涡轮分子泵TwisTorr74FS将TiwsTorr拖动级技术和安捷伦悬浮轴承技术相结合，具有高性能、高可靠性及经济性。

大气低温等离子清洗机SPA2800H 产品简介： 大气等离子清洗作为重要的材料表面改性方法，结构简单，安装方便，可对塑料、橡胶、金属、玻璃、陶瓷、纸质等材料进行表面处理，已经广泛应用于印刷、包装、电子、汽车等行业。

PLUTO-T小型等离子清洗机 产品特点： 1.具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。 2.对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。 3.完全彻底地清除样品表面的有机污染物。 4.定时处理、快速处理、清洗效率高。

PLUTO-MH等离子处理机/去胶机 PLUTO-MH型等离子体表面处理系统是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离子化学反应，粉体等离子体处理等多种能力。

PLUTO-ME定制款等离子处理机 产品简介： 作为在实验室中使用的等离子体研发平台，我们努力尝试为客户解决一切可能在实验活动中遇到的需求。“因为是自己研发的，所以我们知道怎么改！”我们的总工这样评价我们的研发能力。我们非常乐意倾听用户需求，与用户一起合作，制造出能够帮助客户解决问题的设备。

Pluto-MD等离子去胶机 产品介绍： 去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题，将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件，可对工艺参数进行精确控制。

Pluto-MC真空等离子体涂覆（镀膜）设备 产品简介： Pluto-MC利用等离子体改性时，将试样置于特定的离子处理装置中，通过高能态的等离子轰击试样的表面，将能量传递给试样表层的分子，使试样发生热蚀、交联、降解和氧化反应，并使试样表面发生C-F键和C-C键的断裂，产生大量自由基或引进某些极性基团，从而优化试样表面的性能。

Pluto-Atmos常压等离子涂覆镀膜系统 产品简介： Pluto-Atmos是一种基于频率为13.56MHz（射频）等离子体技术的新型表面涂覆设备。是一种强大的新涂层工艺，利用大气压等离子体设备在任何大小或形状的样品上通过扫描的方式获得均匀的涂层。Pluto-Atmos可以沉积多种材料涂层，包括碳基和硅基聚合物、玻璃、氮化硅、金属氮化物和碳化物等。

PLUTO-160等离子体表面处理系统厂家PLUTO-160是一款为工业级客户和研发型客户使用需求设计的宽泛使用等离子表面处理设备，适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用，设备可在严苛环境下稳定运行，获得高度均一的使用效果。

Pluto-30等离子清洗机 产品简介： Pluto30是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模式，从而扩大了该系统的应用范围，提供给用户的灵活性。