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等离子去胶机厂家

更新时间:2020-07-27

等离子去胶机针对于对等离子体处理有严苛要求的场合中使用,等离子源才用频率为13.56MHz射频发生器,兼顾物理反应和化学反应

类型其他

等离子去胶机PLUTO-MH型等离子体表面处理系统是针对于高校,科学研究所和企业实验室,或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。我们收集了大量客户使用信息,分析应用需求,将多年设计和制造经验应用于小型化,多功能的等离子体表面处理设备。无论是设计理念,零配件的选用,都倾注大量精力。针对用户不同的需求,我们提供不同功能附件,在获得常规性能的同时,拥有表面镀膜(涂层),刻蚀,等离子化学反应,粉体等离子体处理等多种能力。

 

等离子去胶机产品特点:

1.针对于对等离子体处理有严苛要求的场合中使用,等离子源才用频率为13.56MHz射频发生器,兼顾物理反应和化学反应

2. 采用500W功率电源,自动阻抗匹配,高功率射频发生器可应对各种实验要求,保障高能量密度和高处理效率

3. 高精度真空度控制,适应各种处理需求

4. 316不锈钢腔体(或者6061铝合金),全不锈钢管路和连接件,适用各种气体(包含腐蚀性气体)

5. 4.3寸工业级触摸屏,软件操作方便,多种参数设置和工艺组合处理模式

6. 可增加多种配件,涂覆镀膜,电极温度控制,等离子体强度控制,等离子体化学反应等功能(如有特殊应用,请咨询销售人员)

根据用户需求,提供对应等离子体处理方案和定制特殊用途设备.

技术参数:

1.配置不同模块,拓展不同应用

加热电极模块-温度可控,可以加速等离子体处理速度和极大提高样品处理的均匀性

沉积镀膜模块,改变表面特性:

沉积CF材料,样品表面可以具有憎水的特性

沉积含苯材料,样品表面起到绝缘防水的特性

沉积含有羟基的材料,提高样品表面和其他材料的结合效果

感应耦合模块-感应耦合等离子体装置

2.气体混合装置

可以根据可以要求进行混气设计

3.气体纯化和反应

气体纯化和使用等离子体与相关材料进行化学反应

应用领域:

处理实例:玻璃片不同处理条件下接触角的变化(在实际操作中,选择合适的工艺参数尤为重要)

检测设备:接触角测量仪    测试液体 水液滴体积 1ul

等离子设备:真空等离子表面处理机PlutoM

 

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