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全自动电感耦合等离子体刻蚀机(ICP-500)

更新时间:2020-11-16

本设备配有下游恒压控制系统,通过薄膜规测量(进口件),可调节阀控制,使真空室达到恒压,从而提高工艺稳定性。
全自动电感耦合等离子体刻蚀机(ICP-500)

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 . 系统描述

本设备为单室高真空系统,它主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频电源系统、自动控制系统、冷却系统、报警系统等组成。

    真空系统由一个分子泵(抽速600升/秒)+ 一个直联旋片式真空泵(抽速9升/秒)组成抽气系统, 将真空室抽至高真空, 分子泵与真空室之间装有一个电动可调节阀电动插板阀, 直联旋片式真空泵为真空室予抽泵及分子泵前级泵。直联旋片式真空泵与真空室之间及与分子泵之间均采用不锈钢硬管及波纹管连接, 并装有电磁气动隔断阀。

本设备配有下游恒压控制系统,通过薄膜规测量(进口件),可调节阀控制,使真空室达到恒压,从而提高工艺稳定性。

射频电源采用进口RF500W及RF1000W双电源控制,带自电动匹配。

气路系统采用四个质量流量控制器(国产)控制四路气体进气。气体管路采用1/4英寸不锈钢硬管(进口件),管路接头连接形式采用双卡套连接(进口件)。

自动控制系统采用PLC控制、17寸触摸显示屏操作,实现真空系统及工艺过程自动化。本机可选择全自动及非全自动模式。

本设备设有安全保护及报警系统。

二. 技术指标

1.极限真空度:  9×10-5Pa(环境湿度≤55%)

2. 刻蚀材料:   SiO2、 Si3N4、深刻Si等

3. 刻蚀速率:  0.01 ~ 2μ/min

  4. 刻蚀均匀性: ≤±5% (φ125mm范围内)

5. 电极尺寸:   φ200mm

6. 反应室尺寸:φ300×280mm(约)

7. 样片尺寸:≤ 5〞(小于5吋的不规则样片都可)

三.设备配置

1. 真空泵源:   分子泵壹台(抽速600升/秒)

TRP-36直联旋片式真空泵壹台

2.真空阀门:   150口径气动插板阀壹个

           40口径高真空电磁气动隔断阀两个

           机械泵口压差阀壹个

3. 射频功率源: RF500W, RF1000W射频电源各一套

4. 气路系统:   四台质量流量控制器(国产)控制四路气体进气

    阀门:   五台1/4英寸气动阀

5. 真空测量:  复合真空计一台(成都睿宝电子仪器有限公司出品)

6. 恒压系统: 薄膜规一个(进口), 可调节阀一套(国产)

7. 自动控制系统一套

工控机一台 

17寸液晶显示器及触摸屏一套 

PLC控制器一套

 全自动电感耦合等离子体刻蚀机(ICP-500)

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