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CMP研磨抛光系统

更新时间:2021-03-22

CMP研磨抛光系统 该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理,整个过程全封闭控制,并内置自清洗功能,提升对操作人员的安全保护;全部采用电脑程序控制,可实现数据传输、工艺存储及数据实时监控与反馈等功能。

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CMP研磨抛光系统

精密研磨抛光系统是生产商英国logitech公司发布的一款适用于科学研究水平的研磨和抛光机型,该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理,整个过程全封闭控制,并内置自清洗功能,提升对操作人员的安全保护;全部采用电脑程序控制,可实现数据传输、工艺存储及数据实时监控与反馈等功能。

CMP研磨抛光系统

武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发,以力学试验机仪器为主,同时销售各种、中低端分析仪器。现有员工60多人,公司成功开发了PCI放大采集卡和中文版试验软件,并采用全数字化,操作简捷,完全符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等标准、国家标准、行业标准的要求,公司亦通过了ISO9001质量体系认证和国家计量体系认证,荣获了“武汉市第九界消费者满意单位”的称号。

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