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Pluto-MD 等离子去胶机

更新时间:2021-03-23

Pluto-MD 等离子去胶机 去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程,在电子束曝光,紫外曝光等微纳米加工工艺后,都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。

品牌其他品牌加工定制
类型其他

Pluto-MD 等离子去胶机

产品介绍 :

去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程,在电子束曝光,紫外曝光等微纳米加工工艺后,都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶是否去除干净对样片是否有损伤等问题,将直接影响后续工艺的顺利完成。PLUTO-MD使用性能出色的组件和软件,可对工艺参数进行精细控制。它的工艺监测和数据采集软件可实现严格的质量控制。该技术已经成功的应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、EMS/MOEMS、生物器件、LED等领域。

产品性能:

经过真空检漏316不锈钢腔体, 具备更好密封性能和保压能力

5L腔体,双层电极,离子密度可控

13.5EMHz射频等离子源,兼容物理反应和化学反应,覆盖全部样品种类

等离子去胶机

创新可调电极,可以调整有效处理面积中等离子体的能量密度

标配两路气体,适应更多用户需求。

Pluto-MD 等离子去胶机

采用电容触摸屏,全数字控制。

全手动控制和预设工艺参数自动运行

武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发,以力学试验机仪器为主,同时销售各种、中低端分析仪器。现有员工60多人,公司成功开发了PCI放大采集卡和中文版试验软件,并采用全数字化,操作简捷,完全符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等标准、国家标准、行业标准的要求,公司亦通过了ISO9001质量体系认证和国家计量体系认证,荣获了“武汉市第九界消费者满意单位”的称号。武汉赛斯特精密仪器有限公司是武汉市专业研发,以力学试验机仪器为主,同时销售各种、中低端分析仪器。现有员工60多人,公司成功开发了PCI放大采集卡和中文版试验软件,并采用全数字化,操作简捷,完全符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等标准、国家标准、行业标准的要求,公司亦通过了ISO9001质量体系认证和国家计量体系认证,荣获了“武汉市第九界消费者满意单位”的称号。

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